低溫恒溫槽使用范圍及常見問題
信息來(lai)源(yuan):本站(zhan) | 發布日(ri)期:
2016-06-16 16:48:24
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論文摘要:
常溫槽底溫常溫槽運用范圍之內:對半導體材料生產加工工藝配置起熱部的閉式放置冷卻塔:單晶體硅片洗去轉栽、打印機、智能夾座重新安裝配置、噴砂配置、鐵離子鍍配置、蝕刻配置、單晶體硅片加工工藝處理配置、切開機、產品包一鍵裝機、定影劑的溫暖監管、露光配置、生磁組成的部分的微波加熱配置等。對二氧化碳激光機器配置起熱組成的部分的閉式放置冷卻塔:二氧化碳激光機器加工工藝、熔接…